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大豆行間機(jī)械覆膜技術(shù)

 

 

大豆行間機(jī)械覆膜技術(shù)是提高地溫、抗旱保墑、保肥、控制雜草、改善品質(zhì)、提高產(chǎn)量、降低生產(chǎn)成本的一種增效十分顯著的農(nóng)機(jī)化新技術(shù)。大豆行間覆膜栽培新技術(shù)采用“平播行間覆膜”的方法，即在上一年秋整地、施肥的基礎(chǔ)上，選用優(yōu)質(zhì)適宜品種、平地播種不起壟，然后用六行或八行大豆覆膜機(jī)械將地膜覆在苗帶與苗帶之間，而不是直接覆蓋在苗帶上，易操作、實(shí)用性強(qiáng)。該技術(shù)的主要特點(diǎn)是膜內(nèi)施肥、膜外播，防止化肥揮發(fā)，提高化肥利用率，水分從膜邊處進(jìn)人膜內(nèi)，防止水分蒸發(fā)，有利于保墑。采用該項(xiàng)技術(shù)，可使土壤溫度提高3—5℃，增加有效積溫300℃左右，肥料利用率提高10％以上，大豆單產(chǎn)提高30％左右，蛋白質(zhì)含量提高2～3個(gè)百分點(diǎn)，脂肪含量提高1.2個(gè)百分點(diǎn)。

   一、行間機(jī)械覆膜的技術(shù)要點(diǎn)

    1．良種選用。選用優(yōu)良品種，要求種子純度達(dá)到98％以上，凈度達(dá)到97％I．X~，發(fā)芽率達(dá)到95％以上，種子包衣率達(dá)到100％，保證種子質(zhì)量。

    2．整地。深松深度達(dá)到25cm以上，地塊要整平耙細(xì)，符合播種、覆膜要求，確保機(jī)械作業(yè)質(zhì)量。

    3．播種、施肥。選用優(yōu)質(zhì)喜水喜肥原種，每公頃播種量55～66kg，每公頃施磷酸二氨120～150kg、尿素30kg、鉀肥50kg做底肥。種子用種衣劑包衣，播后封閉滅草。

    4．覆膜。采用800mm寬地膜，膜厚0．008n1Hl，覆膜后寬度為600～700mm，施肥位置在膜邊內(nèi)50mm左右，離膜邊處50mm播種，地膜要緊貼地面，膜邊蓋土嚴(yán)密，地膜接頭處和

有孔處必須用土蓋壓嚴(yán)密。

    5．防治病蟲(chóng)草害。通過(guò)綜合技術(shù)，使大豆灰斑病、食心蟲(chóng)病防治面積達(dá)到100％。在化學(xué)除草方面，堅(jiān)持以苗前土壤處理為主，以苗后莖葉處理為輔，不使用任何高殘留化學(xué)藥劑，達(dá)到無(wú)公害、綠色標(biāo)準(zhǔn)。

    6．田間管理。覆膜大豆從播種到收獲的一系列生產(chǎn)環(huán)節(jié)，都要組織人員進(jìn)行檢測(cè)記錄。

7．收獲。實(shí)行單收、單脫，單儲(chǔ)、單加工，確保行間覆膜大豆提高等級(jí)，確保作為種子的純度和質(zhì)量。

二、大豆行間覆膜使用的機(jī)具

大豆行間覆膜機(jī)主要采用黑龍江省嫩江農(nóng)業(yè)機(jī)械有限公司生產(chǎn)的2MFB-4A型大豆覆膜機(jī)，該機(jī)是以“壟面栽培和壟間覆膜”兩大部分組成，一次可平播8條壟、4個(gè)壟間覆膜。

三、效果分析

大豆行間覆膜栽培機(jī)械化技術(shù)和常規(guī)種植大豆相比，優(yōu)勢(shì)體現(xiàn)在“四少、三高、一持平”上。

“四少”包括：①種子投入少。由于土壤水分的改善，使大豆保苗率提高，個(gè)體發(fā)育較好，可以減少播量的25%。②除草費(fèi)用少。大豆覆膜栽培是在播種前進(jìn)行封閉處理滅草，若在膜外再出現(xiàn)草荒，僅用正常用量40%的除草劑采用膜外苗帶噴灑即可。③機(jī)械作業(yè)費(fèi)少。大豆覆膜不需起壟、鎮(zhèn)壓，減少中耕次數(shù)。④人工投入少。覆膜后，免除了人工除草，人工投入相對(duì)減少，及時(shí)增加了揭膜環(huán)節(jié)，每公頃也將少投入30元。

    “三高”包括：①化肥利用率高。由于大豆覆膜后，減少了肥料的揮發(fā)和淋溶流失，同時(shí)土壤水分好于裸露地塊，肥料溶性增強(qiáng)，利用率高。②品質(zhì)高。覆膜后減少了食心蟲(chóng)發(fā)病率，增加了粒重，商品性好。③效益高。

    “一持平”是與普通栽培方式比較，覆膜投入與之相當(dāng)。

    經(jīng)田間對(duì)比試驗(yàn)，大豆行間機(jī)械覆膜田比未覆膜田的產(chǎn)量增加30％，具有十分可觀的經(jīng)濟(jì)效益。    

 

                                                (據(jù)天津農(nóng)機(jī)信息網(wǎng))

 

 

發(fā)表于 @ 2008年07月17日 22:26:00 |點(diǎn)擊數(shù)（）

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